3

Effects of STI-fill thickness on the CMP process defects

Année:
2004
Langue:
english
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PDF, 406 KB
english, 2004
4

Optimization of pre-metal Dielectric (PMD) materials

Année:
2001
Langue:
english
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PDF, 666 KB
english, 2001
6

Prevention of plasma-induced damage during HDP–CVD deposition

Année:
2004
Langue:
english
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PDF, 842 KB
english, 2004
15

Chemical mechanical polishing of Ba0.6Sr0.4TiO3 film prepared by sol–gel method

Année:
2004
Langue:
english
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english, 2004
17

Effects of oxidant additives for exact selectivity control of W- and Ti-CMP process

Année:
2005
Langue:
english
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PDF, 2.69 MB
english, 2005
26

Surface planarization of ZnO thin film for optoelectronic applications

Année:
2009
Langue:
english
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english, 2009
31

Effects of different oxidizers on the W-CMP performance

Année:
2005
Langue:
english
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PDF, 262 KB
english, 2005
32

Application of tungsten slurry for copper-chemical mechanical polishing

Année:
2005
Langue:
english
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english, 2005
39

CMP properties and fabrication of OLED using MEH-PPV

Année:
2008
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english
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PDF, 268 KB
english, 2008
40

Optical properties of GaSe:Er3+single crystals

Année:
1996
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english
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PDF, 184 KB
english, 1996
41

Nested balancedN-ary designs

Année:
1995
Langue:
english
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english, 1995
43

Chemical mechanical polishing of PZT thin films for FRAM applications

Année:
2006
Langue:
english
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english, 2006